Spätný ventil API 594 Lug Wafer

Hlavným účelom DUAL PLATE WAFER CHECK ventilu je vykonávať prácu takmer akéhokoľvek bežného ventilu.
Keďže je však menší, je ľahší, a preto je jeho nákup, inštalácia a údržba nákladovo efektívnejšia.
Je to tiež tichý spätný ventil;vďaka svojmu inovatívnemu dizajnu nebuchne pri zatváraní.
Dizajn taniera DUAL PLATE WAFER CHECK a ploché sedadlo ponúkajú mnoho výhod.
Ploché sedlo eliminuje akúkoľvek možnosť zaklapnutia dosky v sedle, ktoré sa často vyskytuje u iných ventilov.
Pri zavesení do vertikálneho čapu majú dve platne zníženú hmotnosť, čo eliminuje nadmerné opotrebovanie očiek platne.
Toto opotrebovanie môže spôsobiť zrútenie dosky na otvorenom povrchu sedla, čo spôsobí následné zlyhanie ventilu.
Dôležitou vlastnosťou DUAL PLATE WAFER CHECK ventilu je, že nezávisí od tlaku alebo prietoku, aby sa dosky vycentrovali vo vzťahu k tesniacej ploche, aby sa vytvorilo tesnenie.
Konvenčné konštrukcie s jednou doskou, dokonca aj tie, ktoré majú centrovacie vodidlá, vyžadujú spätný tlak a spätný tok na vycentrovanie dosky k sedlu, aby sa dosiahlo nastavenie bez úniku.Táto vlastnosť sa stáva mimoriadne rizikovou v prípade zníženého prietoku a manipulácie s plynmi pri nízkom tlaku